SK Hynix的400層3D NAND因技術門檻卡關改先在2026年底量產375層3D NAND
根據韓國媒體The ELEC報導,SK Hynix已經完成生產驗證,預計在2026年底在清州M15晶圓廠量產375層3D NAND;然而375層3D NAND卻是Sk Hynix不得不的結果,因為原本SK Hynix在內部將這項產品歸納在400層級產品,但最終遭遇技術門檻,最終在良率與時間考量下變更為375層。
堆疊層數越高越複雜,新材料勢在必行
根據The ELEC引述產業人士說法,SK Hynix的375層3D NAND是原定的400層計畫產品的最終結果,由於超高層堆疊製程除了複雜性增加,也會面臨包括溝道孔蝕刻等挑戰。
Sk Hynix最終在製程以鉬(Mo)取代原本的部分鎢(W)薄膜,鎢在面臨堆疊層數越多時會由於尺寸縮減導致電阻增加,而鉬相對鎢有更低的電阻,可實現更快的訊號傳輸,提升寫入與消除的速度。另外鎢在沉積前須阻擋襯層輔助,導致每進行一層堆疊就會產生厚度耗損,但鉬則可省卻輔助層進行沉積。

不過畢竟新材料勢必在技術產生挑戰,鉬在室溫將呈現固態,需要能以穩定的加熱使其呈現穩定的流速。
三星已在286層導入鉬材質
The ELEC指出三星以在第9代286層3D NAND開始導入鉬,並自2024年4月投入量產,同時三星也預計在2026年實現超過400層3D NAND的商用,相對Sk Hynix更早實現鉬在3D NAND的導入。
NAND對比DRAM更重視獲利能力
The ELEC引述產業人士說法,NAND產業相對DRAM更重視營利而非出貨量,SK Hynix將隨著新一代高堆疊層數NAND出貨降低低層數產品的產能,藉由提高單位容量降低成本,而非一味的擴增產能,產業人士爆料指出SK Hynix將透過把既有的清州產線進行改造而非建設新廠就是很好的佐證。